工作原理
反應釜激光氧氣分析儀基于可調諧半導體激光吸收光譜（TDLAS）技術。該技術利用氧氣分子對特定波長激光的吸收特性。當激光穿過反應釜內氣體時，氧氣會吸收對應波長的激光能量，通過檢測激光強度的衰減程度，依據朗伯 – 比爾定律，精確計算出氧氣的濃度。這種非接觸式的測量方式，避免了傳統測量方法中因探頭與氣體直接接觸帶來的污染、腐蝕等問題，確保了測量的準確性和穩定性。
產品特點
- 高精度測量：能夠精確測量反應釜內極低濃度的氧氣，精度可達 ppm 級，為對氧氣含量要求苛刻的化學反應提供精準數據支持。例如在一些化工合成反應中，極微量的氧氣變化都可能影響產品質量，該分析儀可敏銳捕捉這些變化。
- 快速響應：具備快速的響應速度，可實時監測反應釜內氧氣濃度的瞬間變化。在反應過程中，一旦氧氣含量出現異常波動，分析儀能迅速反饋，使操作人員及時采取措施，避免事故發生。
- 高可靠性：采用先進的光學和電子元件，經過嚴格的環境適應性測試，可在高溫、高壓、高濕度等惡劣的反應釜工作環境下穩定運行。其堅固耐用的設計，大大降低了設備的故障率，減少了維護成本。
- 非侵入式測量：無需在反應釜上開孔安裝復雜的采樣系統，只需通過光學窗口即可實現對內部氧氣含量的測量，不影響反應釜的密封性，有效防止了反應釜內物質泄漏和外界雜質的進入。
應用領域
- 化工行業：在各類化工產品的生產過程中，如合成氨、有機合成等反應，精確控制反應釜內氧氣含量是保證產品質量和生產安全的關鍵。反應釜激光氧氣分析儀可實時監測，為生產工藝調整提供準確依據。
- 制藥行業：藥品生產對環境要求極高，在某些藥物合成反應釜中，氧氣含量的精準控制關乎藥品的純度和穩定性。該分析儀可確保藥品生產過程在適宜的氧氣環境下進行。
- 電子行業：在電子材料的制備過程中，如半導體材料的生產，反應釜內微量氧氣可能會影響材料性能。反應釜激光氧氣分析儀能幫助企業嚴格把控生產環境中的氧氣含量，提升產品品質。
維護與保養
- 定期清潔光學窗口：由于反應釜內可能存在灰塵、霧氣等雜質，會附著在光學窗口上影響激光傳輸和測量精度。需定期使用專用的光學清潔工具和試劑，輕輕擦拭光學窗口，保持其潔凈通透。
- 檢查光路系統：定期檢查光路系統是否有偏移或損壞，確保激光發射和接收的準確性。若發現光路異常，應由專業技術人員進行校準和維修。
- 校準儀器：按照規定的時間間隔，使用標準氣體對分析儀進行校準，保證測量數據的準確性。校準過程需嚴格按照操作手冊進行，確保校準結果可靠。
總之，反應釜激光氧氣分析儀以其先進的技術、卓越的性能，在眾多工業領域的反應釜氧氣含量測量中發揮著不可或缺的作用，助力企業實現安全生產、提高產品質量、提升生產效率。
